Research - Management System

Effects of Continuous and Discontinuous Deposition Time in Reactive Direct Current Magnetron Sputtering of Titanium Dioxide Thin Films

ประเภทบทความ :

Article

ชื่อวารสารที่ตีพิมพ์ :

Advanced Materials Research

รายละเอียดการตีพิมพ์ :

Advanced Materials Research vol.1131 pp.251-254

ISBN :

วันที่ตีพิมพ์ :

22 ธันวาคม 2015

รายละเอียดวันที่ตีพิมพ์ :

22/12/2015

ระดับผลงาน :

ลิงค์ที่เผยแพร่ผลงาน :

ผลผลิตจากโครงการวิจัย :

เจ้าของผลงาน

ลำดับที่	ชื่อนักวิจัย	หน้าที่/บทบาท	หน่วยงาน
1	Chantana Aiempanakit	First author	สาขาวิชาฟิสิกส์

รายละเอียดงานตีพิมพ์